진공은 도금은 자기장을 사용하여 전자와 상호 작용합니다.

진공은 도금은 자기장을 사용하여 전자와 상호 작용합니다.

공통점: 자기장과 전자 사이의 상호 작용은 전자가 대상 표면 근처에서 나선 모양으로 달리게 하여 전자가 아르곤 가스에 부딪혀 이온을 생성할 확률을 높입니다. 생성된 이온은 전기장의 작용 하에 타겟 표면에 충돌하여 타겟을 스퍼터링합니다. 최근 수십 년의 발전 과정에서 영구 자석이 점차 채택되었으며 코일 자석은 거의 사용되지 않습니다.

진공은 도금 음극 아크 이온 도금:

증착 속도와 필름 품질을 향상시킵니다. 또한 접착력이 우수한 조밀하고 균일한 화합물을 생성합니다.

소재 필름

진공은 도금 마그네트론 스퍼터링:

DC 다이오드 스퍼터링을 기반으로 탄소-황 분석기는 타겟 뒤에 자성 강철이 장착되어 있습니다.

아크 라이트를 사용하여 증발원을 위한 전기를 생성합니다.

진공은 도금 아크 가열 증발 코팅

아크 가열 증발 코팅 (특히 흑연과 같이 융점이 높고 특정 전도성을 가진 재료에 적합합니다. 장치가 간단하고 저렴하며 단점은 방전에 의해 생성되는 미크론 크기의 입자가 필름의 일관성에 영향을 미친다는 것입니다) 레이저 빔 증발 코팅(고융점 물질을 증발시킬 수 있음) 반응성 증발 코팅(불화마그네슘, 산화바륨, 산화주석 등과 같은 내화성 화합물의 증발)

진공 은도금 레이저 빔 증발 코팅

아크 가열 증발 코팅 (특히 흑연과 같이 융점이 높고 특정 전도성을 가진 재료에 적합합니다. 장치가 간단하고 저렴하며 단점은 방전에 의해 생성되는 미크론 크기의 입자가 필름의 일관성에 영향을 미친다는 것입니다) 레이저 빔 증발 코팅(고융점 물질을 증발시킬 수 있음) 반응성 증발 코팅(불화마그네슘, 산화바륨, 산화주석 등과 같은 내화성 화합물의 증발)

진공 은도금 진공 증발 코팅은 다음과 같이 세분될 수 있습니다.

저항 증착 코팅(금, 은, 황화아연, 불화마그네슘, 삼산화크롬 등과 같은 저융점 물질 증착에 적합) 전자빔 증착 코팅(몰리브덴, 텅스텐, 게르마늄, 이산화규소와 같은 내화성 금속 증착 가능) 등), 알루미나 등) 고주파 유도 가열 증발 코팅 (증발 속도가 높고 증발원의 온도가 안정적이며 작업이 간단하고 재료 순도 요구 사항이 넓습니다.

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