기본 소재로 진공 은도금 고속도강

기본 소재로 진공 은도금 고속도강

M2 고속도강을 모재로 선택하고, 시편 크기는 6mm × 6mm × 10mm이며, 절단 시험을 위해 Φ10mm 사양의 동일한 재질의 탭을 여러 개 준비한다. 스퍼터링 타겟 재료는 한 쌍의 티타늄 금속 타겟(순도 99.99%)과 흑연 타겟(순도 99.99%)이며 두 종류의 타겟(4개의 타겟)이 코팅 챔버의 내벽에 교대로 균일하게 배열됩니다. 코팅 전 샘플 표면을 연마하여 육안으로 확인 가능한 거시적인 흠집을 제거하고 거울면으로 연마하였다. 그런 다음 탭과 샘플을 분사하여 표면층의 오염을 제거했습니다. 초음파 세척 후 건조하여 용광로에 설치하였다. 9.0×10-3Pa로 배기하고 공작물을 60분 동안 예열한 다음 아르곤 이온 충격 효과를 사용하여 30분 동안 음의 바이어스에서 기판을 에칭하고 청소합니다. 박막과 기판 사이의 결합력을 향상시키기 위해 증착 도가니에서 Ti 금속 블록에 의해 기판 상에 Ti 금속 전이층을 증착한다. 마지막으로 4.5×10-1Pa의 압력 조건에서 흑연 타겟과 티타늄 타겟을 3시간 동안 동시 스퍼터링하여 TiCN 박막을 제조하였다. 코팅 후 1시간 동안 식힌 후 샘플을 꺼냅니다.

진공 은 도금을 위한 질소와 아르곤의 혼합 분위기

CH4 또는 C2H2 대신 질소와 아르곤의 혼합 분위기에서 흑연 타겟과 티타늄 타겟을 공동 스퍼터링하여 TiCN 박막을 제조하고, 이 제조 방법으로 얻은 TiCN 박막의 조성, 구조, 경도 및 결합 강도를 분석하고 분석했다. 동시에, 이 방법에 의해 고속도강 탭 표면에 증착된 TiCN 필름의 실제 적용이 조사되었습니다.

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