진공 성형기 전자빔 코팅기 코팅 재료

진공 성형기 전자빔 코팅기 코팅 재료

고진공에서 전자빔 코팅기는 가속 양극에 의해 가속되는 열전자를 방출하고 엄청난 운동 에너지를 얻어 증발 물질을 폭격하고 운동 에너지는 열로 변환되어 증발 물질을 가열하여 전자빔 증발을 실현합니다. 코팅. 전자빔 코팅기는 전자를 방출하는 열음극, 전자가속전극, 양극 역할을 하는 코팅재로 구성된다. 전자빔 증발원의 에너지는 고도로 집중되어 코팅 물질이 국부적으로 고온에 도달하여 증발합니다. 전자빔의 파워를 조절함으로써 코팅 물질의 증발 속도를 쉽게 제어할 수 있으며, 특히 고융점, 고순도 금속 및 복합 물질에 적합합니다.

진공 포머 전자빔 가열로 더 높은 자속 밀도 생성

(1) 코터 내 전자빔 가열 방식과 기존의 저항 가열 방식을 비교하였다. 전자 빔 가열은 고 융점 물질의 증발에 도움이 되는 더 높은 자속 밀도를 생성하고 증발 속도를 어느 정도 증가시킬 수 있습니다.

(2) 전자 빔 코팅기가 작동 중일 때 증발할 원료를 수냉식 구리 도가니에 넣어 재료의 오염을 방지하고 고순도 필름을 생성할 수 있습니다.

진공성형기 전자빔코팅기용 이온세척장치

전자 빔 코터 장비는 Kaufman 이온 소스를 채택하고 전기장 및 전압은 1.5KV이며 필라멘트는 음극이고 기계 부품은 양극이며 양극은 접지됩니다. 작동 원리는 아르곤 가스가 이온화 챔버에 주입되고 가스 아르곤 원자가 아크 방전에 의해 플라즈마로 이온화된다는 것입니다. 음이온 빔은 플라즈마에 대해 양전위를 갖는 전극의 작용 하에 플라즈마로부터 추출된다. 전기장의 작용으로 0.5-5 kev의 에너지를 가진 아르곤 음이온이 음극에서 양극으로 이동하여 가공 부품의 표면을 고속으로 폭격합니다. 아르곤 이온은 직경이 수십분의 1나노미터에 불과합니다. 공작물 표면에 이온 빔을 가한 후 아르곤 이온의 운동 에너지로 인해 공작물 표면의 원자가 스퍼터링됩니다. 공작물 표면의 오염 물질을 제거하는 목적, 즉 공작물의 이온 세정을 달성합니다.

필름 재료의 공급 메커니즘과 가공 부품의 공급 및 회전 구조도 전자빔 코팅기의 필수 구성 요소입니다. 이 두 메커니즘의 작동 원리와 주요 구성 요소는 기본적으로 CNC 공작 기계와 동일하기 때문입니다. 일반 공작 기계도 마찬가지입니다.

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