이산화규소 박막 생성에 사용되는 탄화규소 막대의 표면 산화

사용하는 동안 실리콘 카바이드 막대의 표면이 산화되어 이산화규소 막을 형성합니다. 장기간 사용하면 이산화규소 피막과 탄화규소 막대의 저항 값이 증가합니다. 실리카 필름은 결정화 임계점(270도) 근처에서 비정상적인 팽창 및 수축을 겪습니다. 간헐적인 가마 사용 중 일정한 온도 변동으로 인해 이산화규소 피막이 반복적으로 파괴되어 산화가 가속화됩니다. 따라서 정전로의 온도가 상온으로 떨어지면 저항이 급격하게 증가하는 경우가 많다. 탄화 규소 막대의 저항 값이 다른 경우 저항이 높은 탄화 규소 막대의 부하가 직렬로 연결될 때 더 집중되어 특정 탄화 규소 막대의 저항이 급격히 증가하고 수명이 단축될 수 있습니다. 실리콘 카바이드 막대는 일반적으로 직렬 및 병렬 배선과 함께 사용됩니다. 두 개의 직렬 연결을 그룹으로 사용한 다음 여러 병렬 연결을 사용하는 것이 좋습니다. 특히 Furnace 내부의 온도가 1350도를 초과할 경우 병렬로 연결해야 합니다. 3상 배선에는 개방형 델타 배선을 사용하는 것이 좋습니다.