푸시 슬래브 가마의 상세 정보:

이 일련의 푸시 플레이트 가마는 압전 세라믹, 배리스터, 자기 부품, 전자 세라믹, 화학 재료 및 세라믹 제품을 소성하는 데 적합합니다. 이 가마 시리즈는 티탄산바륨, 탄산스트론튬 및 산화지르코늄과 같은 분말 재료를 하소하는 데에도 적합합니다.

장비는 노 본체, 전자동 로터리 PLC 제어 장치, 전기 제어 캐비닛 등으로 구성됩니다.

푸셔 가마의 특징: 실리콘 카바이드 막대가 위아래로 가열되며 고온 영역은 상한 및 하한 온도에서 별도로 제어됩니다. 단면 온도차가 작습니다. 이중 푸셔 저항 용광로 라이닝 설계는 가마의 수명을 보장하기 위해 대형 붕괴 지붕 구조를 채택합니다. 회전 구조는 이중 푸시 및 풀 푸시, 단일 푸시 플레이트가 회전합니다.

옵션: 완전 자동 회전(기계식 또는 유압식)

컴퓨터 모니터링 시스템. 구운 제품이 다르니 상담 부탁드립니다.