전기 가열 튜브 용 전기 도금 솔루션의 기본 공식

전기 가열 튜브 용 전기 도금 솔루션의 기본 공식

증착 속도는 화학 증착의 동적 프로세스를 반영할 뿐만 아니라 코팅의 성능과 품질에 직접적인 영향을 미칩니다[31]. 화학 증착 C계 합금 도금액의 조성 및 도금 공정 파라미터의 변화의 복잡성으로 인해 증착 속도는 여러 요인에 의해 영향을 받습니다. 따라서 화학침착율에 대한 심층적인 연구가 필요하다.

도금액의 기본 공식

도금 용액[s]의 기본 공식은 다음과 같습니다. COC12.6H2011.7g/L; NiCl2 · 6H205.0g/L; NaBH, 0.6g/L; Na2C, H, O, · 2H2{{20}}65.0g/L; NH4Cl12.0g/L; 에틸렌디아민 1.2g/L; 안정제 1.0g/L; 6600C; pH13^14; 적재 능력 0.8dm2/L; 희토류 원소는 염화물의 형태로 첨가됩니다.

1.2 실험 방법

샘플은 20mm x 10mm x 0.03mm 동판입니다. 구리는 자발적으로 도금을 시작할 수 없기 때문에 도금을 도입해야 합니다. 합금이 증착되기 시작하면 자발적으로 진행됩니다. 사용된 AS10200ADT 초음파 발생기(280W, 40/60kHz)는 40kHz와 60kHz의 두 가지 주파수를 가지며 전력은 최대 전력의 400o에서 90% 사이에서 조정할 수 있습니다. 플레이팅 시간은 30분; FA2004N 전자 분석 저울은 칭량을 통해 샘플의 침착 속도를 계산하는 데 사용됩니다.

Co Ni B 합금의 화학 증착을 기반으로 희토류 원소를 첨가하여 양호한 연자기 특성을 갖는 코팅을 포함하는 보울을 제조했습니다. 코팅의 구조 및 특성에 대한 희토류 원소의 영향을 연구했습니다. 연구에 따르면 희토류 원소의 전극 전위는 상대적으로 음수이지만 수용액에서 직접 침전시키기는 어렵습니다. 그러나 적절한 착화제 및 전이족 원소의 유도 하에서 희토류 금속의 전극 전위는 양의 방향으로 이동될 수 있는 반면, 전이족 금속의 전극 전위는 음의 방향으로 이동될 수 있으므로 전극 전위가 접근하고 감소 공동을 달성할 수 있습니다. 전이족 금속 및 희토류 금속의 증착.

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