진공 은도금을 위한 좋은 세척 공정은 장비의 최종 압력을 향상시킬 수 있습니다.

진공 은도금을 위한 좋은 세척 공정은 장비의 최종 압력을 향상시킬 수 있습니다.

During the use of vacuum coating equipment, parts will also be contaminated. This contamination is related to the conditions of use and the vacuum pump. For example: the inner wall of the vacuum coating machine will be polluted by the evaporation material; the mechanical pump oil of the vacuum pumping unit of the vacuum coating equipment is the source of pollution, and the equipment will form an obvious oil film inside the equipment after long-term operation. These contaminations will also affect the performance of the equipment and should be removed at any time. Especially the ultra-high vacuum multi-target magnetron + ion beam combined sputtering equipment, its ultimate pressure is 6.6x10-Pa, and the equipped vacuum pumping group is an ultra-high vacuum system. In ultra-high vacuum systems, the cleaning process is even more important. A good cleaning process can reduce material outgassing rates by orders of magnitude. For example, after the stainless steel is exposed to the atmosphere for a long time, without any treatment, the gas output rate after pumping for 1 hour is 2.7x10-Pa-L/s m2), and it can be reduced to 1.3x10-Pa-L/ after pumping for 4 hours after removing oil stains. Csm). After baking at 250℃ for 15h, the outgas rate is further reduced to 1.3x10-Pa-L/(sm>. 좋은 청소 프로세스는 장비의 최종 압력을 증가시킬 수 있습니다.

진공 은도금을 위한 진공 챔버 재질은 대부분 스테인리스 스틸입니다.

초고진공 시스템의 진공 챔버 재질은 대부분 스테인리스 스틸이며 이는 스테인리스 스틸의 세척에 매우 중요합니다. 세척은 스테인리스 스틸 표면에서 기체의 물리흡착 및 화학흡착을 줄이는 것입니다. 불결한 스테인리스 스틸 표면은 2차 이온 분광계와 Auger 분광계로 관찰됩니다. 주요 오염 물질은 유기물에 속하는 탄소와 그 화합물입니다. 따라서 표면 유기물 및 탄화물을 제거하기 위해 다양한 화학 용제를 사용하는 것이 일반적인 방법입니다.

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